В РМТ разработана оригинальная технология изготовления одно- и двусторонних печатных плат с переходными коммутационными отверстиями на керамических подложках, таких как оксид и нитрид алюминия. Технология имеет преимущества перед традиционными тонкопленочной и толстопленочной технологиями изготовления керамических печатных плат.
Одно и двусторонние печатные платы, выполненные по данной технологии, характеризуются высоким разрешением, высокой электропроводностью, паяемостью и развариваемостью по коммутационным дорожкам.
Изготавливаемые керамические печатные платы могут применяться для изготовления гибридных электронных схем, в области силовой электроники, оптоэлектронике и СВЧ технике.
РМТ предоставляет услуги по изготовлению керамических печатных плат с односторонним и двухсторонним коммутационным рисунком по требованию заказчика. В качестве подложки могут быть использованы 100% Al2O3, 96% Al2O3 (ВК96) и нитрид алюминия.
![]() | ![]() Рис.2 - Технология переходных отверстий РМТ (клик для увеличения) |
| | | ||
Различные формы керамики
| Различные размеры отверстий
| Двухсторонний рисунок металлизации
| ||
| | | ||
Высококачественные Au покрытия | Различные толщины керамики
| От образцов до серийного производства |
Параметер
|
Тип керамики
|
Ед.
|
Комментарии | ||
Al2O3(100%) |
Al2O3(96%) |
AlN(100%) | |||
Основные Размеры | |||||
Размер подложки |
60.0 x 48.0 |
мм |
По умолчанию* | ||
Толщина подложек |
0.15; 0.25; 0.5; 0.63; 1.0 |
мм |
По умолчанию* | ||
Подготовка поверхности |
|
|
| ||
- полированная |
Ra < 0.1 |
мкм |
| ||
- шлифованная |
Ra < 0.4 |
мкм |
| ||
Характеристики рисунка | |||||
Минимальная ширина дорожки |
0.1 |
мкм |
| ||
Минимальный зазор |
0.1 (0.05*) |
мкм |
| ||
Адгезия металлизации |
> 5 |
> 3 |
> 3 |
кг/мм2 |
|
Двусторонний рисунок металлизации |
+ |
|
| ||
Переходные отверстия диаметр |
> 0.2 |
мм |
| ||
Точность совмещения рисунков сторон |
20 |
мкм |
Для двух стороннего рисунка
| ||
Металлизация | |||||
Адгезионный подслой Cr (Ti) |
< 0.1 |
мкм |
Магнетронное напыление | ||
Проводящий слой Сu |
20 - 25 |
мкм |
Магнетронное напыление | ||
Барьерный слой Ni |
3 - 4 |
мкм |
Химическое осаждение | ||
Слой золота Au |
0.2 - 0.3 |
мкм |
Химическое осаждение | ||
Способ разделения подложки | |||||
Дисковая алмазная резка |
+ |
|
| ||
Лазерная резка/скрайбирование |
+ |
|
| ||
Сквозные отверстия |
+ |
|
Лазерное сверление
| ||
* Параметры могут быть изменены по требованию
|
По вопросу размещения заказов вы можете обратиться напрямую по телефону или через электронную почту, либо через форму обратной связи.